[发明专利]电熔丝结构及其形成方法在审
| 申请号： | 202010388165.6 | 申请日： | 2020-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN113629035A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 余达强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/525 | 分类号： | H01L23/525;H01L23/528;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海德禾翰通律师事务所 31319 | 代理人： | 侯莉 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种电熔丝结构及其形成方法，所述电熔丝结构包括：熔丝链，包括熔断区和沿熔断区延伸方向位于熔断区两侧的电极区；所述熔断区包括截切区和沿着熔断区延伸方向位于截切区两侧的连接区，所述截切区的宽度小于所述连接区的宽度。上述的方案，可以提升电熔丝结构的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 电熔丝 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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