[发明专利]用于可拉伸电子装置的基底及其制备方法有效
| 申请号： | 202010299486.9 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN111554638B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 郭小军;陈苏杰;李明 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H01L23/14 | 分类号： | H01L23/14;H01L21/48 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址： | 200030 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及柔性电子制造技术领域，尤其涉及一种用于可拉伸电子装置的基底及其制备方法。所述用于可拉伸电子装置的基底包括：弹性衬底；底层应变缓冲层，嵌入所述弹性衬底内部；顶层应变缓冲层，贴附于所述弹性衬底表面，且与所述底层应变缓冲层对准设置；所述底层应变缓冲层的杨氏模量和所述顶层应变缓冲层的杨氏模量均大于所述弹性衬底的杨氏模量，且所述顶层应变缓冲层的杨氏模量大于或等于所述底层应变缓冲层的杨氏模量。本发明通过底层应变缓冲层可以有效的减小应变集中效应，通过顶层应变缓冲层可以使得电子器件区域不发生应变，从而提高了可拉伸电子装置的稳定性和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 拉伸 电子 装置 基底 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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