[发明专利]在III-V衬底上沉积高粘附性薄膜的机台及其工艺在审
| 申请号： | 202010228410.7 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN113445028A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 邹志文;崔虎山;范思大;任慧群;丁光辉;吴志浩;许开东;陈璐 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/455;C23C16/54;C23C16/40;C23C16/34;H01L21/67 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 徐尔东 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在III‑V衬底上沉积高粘附性薄膜的机台及其工艺，包括主腔室，在主腔室的顶部设置支撑座，主腔室的底部安装升降装置，升降装置与支撑座相对设置，且在升降装置与支撑座相对的位置安装载片台；支撑座呈U型，在其U型凹槽内嵌设催化丝，主腔室的一侧分别开设第一进气口和抽气口，其中第一进气口用于通入反应气体，抽气口与泵体连接相通；主腔室的另一侧开设第二进气口，其与远程等离子发生气模块连通；本发明装置可以保证工艺质量的同时，提高腔室的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | iii 衬底 沉积 粘附 薄膜 机台 及其 工艺 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
