[发明专利]辅助图形的配置方法、掩膜版及其形成方法和相关设备

摘要

本发明实施例提供一种辅助图形的配置方法、掩膜版及其形成方法和相关设备，其中所述配置方法包括：提供主图形，所述主图形具有沿第一方向延伸的边，第二方向与第一方向垂直，所述主图形曝光时在第一方向具有第一最佳焦平面，在第二方向具有第二最佳焦平面，所述第一最佳焦平面与所述第二最佳焦平面之间具有最佳焦平面偏移量；在所述主图形周围提供初始辅助图形；提取所述初始辅助图形的配置参数，所述配置参数与所述最佳焦平面偏移量具有对应关系；基于配置参数的调整，获得与预设最佳焦平面偏移量对应的配置信息；根据所述配置信息在主图形周围配置辅助图形。本发明实施例有利于提高光刻质量。