[发明专利]一种碳化硅功率二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010059519.2 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN113140639A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 陈道坤;史波;曾丹;敖利波 申请(专利权)人: 珠海零边界集成电路有限公司;珠海格力电器股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L21/335;H01L29/16
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘红彬
地址: 519015 广东省珠海*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及半导体技术领域,公开一种碳化硅功率二极管及其制作方法,包括:碳化硅衬底;形成于碳化硅衬底一侧的N型碳化硅外延层,N型碳化硅外延层表面具有有源区以及围绕有源区的场限环终端区;有源区包括多个间隔设置的N型区以及位于相邻两个N型区之间的P+区;N型区的掺杂浓度高于N型碳化硅外延层的掺杂浓度;场限环终端区包括多个间隔设置的P+区;形成于至少一个N型区的第一肖特基接触金属;形成于N型碳化硅外延层的阳极金属层,阳极金属层包括阳极金属和第二肖特基接触金属,第一肖特基接触金属与N型区形成的接触势垒低于第二肖特基接触金属与N型区形成的接触势垒,用于降低碳化硅功率二极管的正向导通压降。
搜索关键词: 一种 碳化硅 功率 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
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