[发明专利]一种制作超薄透明石墨烯栅电极的方法有效

专利信息
申请号: 202010016401.1 申请日: 2020-01-08
公开(公告)号: CN111192937B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 蔡金明;梁洁园;萧文秋 申请(专利权)人: 广东墨睿科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/113
代理公司: 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) 44450 代理人: 李林学
地址: 523170 广东省东莞市道滘镇万道路*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及石墨烯加工技术领域,一种制作超薄透明石墨烯栅电极的方法,包括以下步骤:a,制取样品;b,样品的定位;c,电极图案化;d,电子束曝光电极;e,变性PMMA的去掉;f,源漏金属电极的沉积;g,器件的成形;h,沉积氧化绝缘层;i,石墨烯电极的准备;j,顶栅场效应晶体管的制作;本发明以转移石墨烯作透明电极取代传统的蒸镀金属电极,避免电子束曝光或金属电极沉积使绝缘氧化层出现裂缝,从而使顶栅场效应晶体管仍能正常工作,并且应用于光电领域。
搜索关键词: 一种 制作 超薄 透明 石墨 电极 方法
【主权项】:
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