[其他]沉积设备有效
| 申请号： | 201990001299.9 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN215342496U | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | N·S·马杜;P·K·比拉达尔;拉尔夫·林登贝格;托马斯·格比利 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/35;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种沉积设备。所述沉积设备包括：真空腔室(101)；沉积源(120)，所述沉积源包括在所述真空腔室内的至少一个溅射源(121)以用于涂覆在所述沉积源的第一侧上的基板；以及屏蔽布置(130)，所述屏蔽布置布置在所述沉积源的第二侧上。所述屏蔽布置包括多个屏蔽单元，所述多个屏蔽单元部分地重叠并且在所述多个屏蔽单元间限定气流路径(132)。所述屏蔽布置可包括交替地布置的前屏蔽单元(135)和后屏蔽单元(136)。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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