[其他]沉积设备

权利要求书

1.一种沉积设备，其特征在于包括：

真空腔室(101)，所述真空腔室(101)包括真空处理区域(102)和泵吸区域(103)；

沉积源(120)，所述沉积源包括在所述真空腔室的所述真空处理区域(102)内的至少一个溅射源(121)以用于涂覆在所述沉积源(120)的第一侧上的基板(10)；和

屏蔽布置(130)，所述屏蔽布置布置在所述沉积源(120)的第二侧上，所述屏蔽布置(130)包括屏蔽单元(131)，所述屏蔽单元部分地重叠并在所述屏蔽单元间限定气流路径(132)，所述气流路径(132)从所述真空处理区域(102)穿过所述屏蔽布置(130)延伸到所述泵吸区域(103)。

2.如权利要求1所述的沉积设备，其中所述屏蔽布置(130)包括七个或更多个屏蔽单元(131)，从而在所述屏蔽单元间限定六个或更多个气流路径。

3.如权利要求2所述的沉积设备，其中所述屏蔽布置(130)包括十五个或更多个屏蔽单元，从而在所述屏蔽单元间限定十四个或更多个气流路径。

4.如权利要求1所述的沉积设备，其中所述屏蔽单元(131)为屏蔽板。

5.如权利要求4所述的沉积设备，其中所述屏蔽单元(131)是弯曲的屏蔽板。

6.如权利要求4所述的沉积设备，其中所述屏蔽单元(131)是C形或U形屏蔽板。

7.如权利要求1至6中任一项所述的沉积设备，其中所述屏蔽布置(130)包括交替地布置的前屏蔽单元(135)和后屏蔽单元(136)，其中两个相邻前屏蔽单元在所述两个相邻前屏蔽单元间提供相应地由相应后屏蔽单元屏蔽的间隙。

8.如权利要求7所述的沉积设备，其中所述前屏蔽单元(135)和所述后屏蔽单元(136)被配置为倒转地布置的U形屏蔽板，所述倒转地布置的U形屏蔽板在所述倒转地布置的U形屏蔽板间限定迷宫式管道。

9.如权利要求7所述的沉积设备，其中所述前屏蔽单元(135)相应地包括多个前屏蔽区段(172)，所述多个前屏蔽区段在基本上竖直的方向(V)上一个接一个地布置，或者其中所述后屏蔽单元(136)相应地包括多个后屏蔽区段(173)，所述多个后屏蔽区段在所述基本上竖直的方向(V)上一个接一个地布置。

10.如权利要求7所述的沉积设备，其中所述前屏蔽单元(135)相应地包括多个前屏蔽区段(172)，所述多个前屏蔽区段在基本上竖直的方向(V)上一个接一个地布置，并且其中所述后屏蔽单元(136)相应地包括多个后屏蔽区段(173)，所述多个后屏蔽区段在所述基本上竖直的方向(V)上一个接一个地布置。

11.如权利要求1至6中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个溅射源(121)可围绕轴线旋转。

12.如权利要求7所述的沉积设备，其中所述至少一个溅射源(121)可围绕轴线旋转。

13.如权利要求1至6中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个溅射源(121)具有布置在其中的磁体组件(122)，所述磁体组件可在预溅射位置与溅射位置之间移动。

14.如权利要求1至6中任一项所述的沉积设备，其中所述沉积源(120)包括以基本上线性的设置布置的四个、八个、十二个、十六个或更多个溅射源(121)的阵列。

15.如权利要求1至6中任一项所述的沉积设备，其中所述气流路径(132)从所述屏蔽布置(130)的前侧上的所述真空处理区域(102)延伸到所述屏蔽布置的后侧上的所述泵吸区域(103)，所述沉积设备还包括至少一个气体入口(160)以用于将处理气体引入到所述真空处理区域(102)中。