[发明专利]用于在金属基材上沉积无机颗粒的低温方法及由其生产的制品在审
| 申请号： | 201980078341.1 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN113166933A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 金勳;C·A·保尔森 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/36 | 分类号： | C23C16/36;B28B3/26;C23C16/46;C23C16/52 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张璐;乐洪咏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于通过化学气相沉积(CVD)在金属基材上沉积包含碳氮化钛的无机颗粒的方法。在一些实施方式中，可以向CVD过程供应两种或更多种反应形成无机颗粒的源气体。其中的至少一种源气体包括钛源气体。并且碳和氮的来源可以是(a)包括碳和氮源气体并且生成热能小于65.9千焦/摩尔的单种源气体，和/或(b)两种源气体，其包括碳源气体和氮源气体，所述碳源气体包含具有碳‑氮单键的气体分子。在一些实施方式中，可以向CVD过程供应包含用于形成无机颗粒的金属有机化合物的源气体。在一些实施方式中，可以向CVD过程供应含铝的金属有机还原剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 基材 沉积 无机 颗粒 低温 方法 生产 制品 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
