[发明专利]光学测量装置以及光学测量方法在审
| 申请号： | 201980058003.1 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112654834A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 髙嶋润;金谷义宏 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | G01C3/06 | 分类号： | G01C3/06;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都市下京区盐小路通堀川东入*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明自受光量分布信号获得测定波形信号。光学测量装置100包括：光源10，向对象物TA发出光；受光部40，以多个像素各自可检测受光量的方式构成，且获得每个像素的受光量分布信号；获取部51，基于不存在对象物TA时的受光量分布信号，自利用对象物TA所反射的反射光的受光量分布信号获取测量波形信号MS；以及调整部53，在反射光的受光量分布信号的一部分受光量为规定值以上时，以获取测量波形信号MS的方式，调整对于反射光的受光量分布信号的感度参数。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 装置 以及 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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