[发明专利]清洗液组合物在审
| 申请号： | 201980054513.1 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN112639068A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 高中亚铃治 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/22;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 徐迅;马莉华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供短时间内有效地去除在具有Co接触插头或Co布线的半导体基板中的来源于浆料的有机残留物或磨粒的清洗液。本发明涉及包含一种或两种以上的还原剂及水的用于清洗具有Co接触插头和/或Co布线的基板的清洗液组合物。并且，本发明涉及包含一种或两种以上的还原剂及水，pH为3以上且小于12的用于清洗具有Co且不具有Cu的基板的清洗液组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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