[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物和图案形成方法

摘要

一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物。[LxTe(OR1)y] (1)(上述式(1)中，L为除OR1以外的配体，R1为氢原子、取代或未取代的碳数1～20的直链状或碳数3～20的支链状或环状的烷基、取代或未取代的碳数6～20的芳基、和取代或未取代的碳数2～20的烯基中的任意者，x为0～6的整数，y为0～6的整数，x与y的总计为1～6，x为2以上的情况下，多个L任选相同或不同，y为2以上的情况下，多个R1任选相同或不同。)。