[发明专利]平台设备、光刻设备、控制单元和方法在审
| 申请号： | 201980028170.1 | 申请日： | 2019-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN112041750A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | R·P·C·范多斯特;G·克拉默;B·C·H·斯梅茨;M·J·H·弗雷肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/677;H01L21/68;H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种平台设备，包括物体支撑件、多个支撑构件、夹持器和控制单元。所述物体支撑件包括用于在其上安装物体的表面，所述表面沿着一平面延伸。多个支撑构件用于支撑所述物体，并布置成从夹持器接收物体并且将物体布置在表面上和/或反之亦然。支撑构件至少在垂直于平面的第一方向上是可移动的。控制单元布置为接收与所述物体的平面外形状有关的形状信息，并且布置为控制所述支撑构件的位置。所述控制单元布置为在物体由所述支撑构件支撑的同时通过基于所述形状信息控制所述位置来使所述物体倾斜，以减少所述物体在所述第一方向上的空间占用。 | ||
| 搜索关键词： | 平台 设备 光刻 控制 单元 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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