[发明专利]基于双晶体管鳍式场效晶体管的分裂栅极非易失性浮动栅极闪存存储器及其制造方法在审
| 申请号: | 201980020126.6 | 申请日: | 2019-01-23 |
| 公开(公告)号: | CN111868928A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
| 发明(设计)人: | S·乔尔巴;C·德科贝尔特;Z·冯;J·金;X·刘;N·多 | 申请(专利权)人: | 硅存储技术股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L29/423;H01L29/78;H01L29/788;H01L21/28;H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈斌 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种非易失性存储器单元,该非易失性存储器单元形成在半导体衬底上,该半导体衬底具有上表面,该上表面具有向上延伸的鳍片,该向上延伸的鳍片具有相对的第一侧表面和第二侧表面。第一电极和第二电极与该鳍片的第一部分和第二部分电气接触。该鳍片的沟道区包括在该鳍片的该第一部分和该第二部分之间延伸的该第一侧表面和该第二侧表面的部分。浮动栅极沿着该沟道区的该第一部分的该第一侧表面延伸,其中该浮动栅极中没有一个部分沿着该第二侧表面延伸。字线栅极沿着该沟道区的第二部分的该第一侧表面和该第二侧表面延伸。控制栅极设置在该浮动栅极上方。擦除栅极具有第一部分和第二部分,该第一部分与该浮动栅极横向相邻设置,该第二部分竖直地设置在该浮动栅极上方。 | ||
| 搜索关键词: | 基于 双晶 体管鳍式场效 晶体管 分裂 栅极 非易失性 浮动 闪存 存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅存储技术股份有限公司,未经硅存储技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980020126.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





