[实用新型]一种化学气相沉积设备有效
申请号: | 201921676252.0 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN210974866U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 李辰宇;王慧慧 | 申请(专利权)人: | 碳翁(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙) 11457 | 代理人: | 李砚明 |
地址: | 100036 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种化学气相沉积设备,所述化学气相沉积设备包括外层反应管、内层反应管以及气体供应系统,所述外层反应管嵌套在所述内层反应管外侧,二者分别单独密封,所述外层反应管与所述内层反应管之间或者二者内部至少一处设置有连通结构,所述气体供应系统的进气端和回气端分别与所述外层反应管、内层反应管中的至少一个相连通,所述外层反应管、内层反应管左右两端的进/出气口交替作为气体供应入口。本实用新型结构简单,气体路径可调,优化了CVD法制备纳米薄膜材料的工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的