[实用新型]一种化学气相沉积设备有效
申请号: | 201921676252.0 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN210974866U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 李辰宇;王慧慧 | 申请(专利权)人: | 碳翁(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙) 11457 | 代理人: | 李砚明 |
地址: | 100036 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 | ||
1.一种化学气相沉积设备,其特征在于,所述化学气相沉积设备包括外层反应管、内层反应管以及气体供应系统,所述外层反应管嵌套在所述内层反应管外侧,二者分别单独密封,所述外层反应管与所述内层反应管之间或者二者内部至少一处设置有连通结构,所述气体供应系统的进气端和回气端分别与所述外层反应管、内层反应管中的至少一个相连通,所述外层反应管、内层反应管左右两端的进/出气口交替作为气体供应入口。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述气体供应系统包括气路系统(5)和压力系统(6),所述压力系统(6)经由所述气路系统(5)分别通过所述进/出气口与所述外层反应管的两端、所述内层反应管的两端相连通,各所述进/出气口中的任意两个作为所述气体供应系统的进气端和回气端。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述外层反应管的两端、所述内层反应管的两端的每个所述进/出气口分别直接或间接连接至所述气路系统(5)和所述压力系统(6),各个所述进/出气口与所述气路系统(5)和所述压力系统(6)之间设置截止阀,其连通由所述截止阀控制。
4.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述气体供应系统包括供气支路和回气支路;所述供气支路由所述气路系统(5)中供气源分别经由多个截止阀与所述外层反应管、所述内层反应管两端的各个所述进/出气口相连而成;所述回气支路由所述压力系统(6)通过所述截止阀分别与所述外层反应管、所述内层反应管两端的各个所述进/出气口相连而成;所述供气支路与所述回气支路的中部通过所述截止阀连通,以使得各个所述进/出气口均可以在所述截止阀的控制下分别连通所述气路系统(5)和所述压力系统(6)。
5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述气路系统(5)包括气罐一(51)、气罐二(52)和截止阀;所述气罐一(51)的左右两端分别通过间隔设置的截止阀F5、截止阀F2和截止阀F8、截止阀F13与所述内层反应管的两端管道相连;所述气罐二(52)的左右两端分别通过间隔设置的截止阀F7、截止阀F1和截止阀F10、截止阀F14与所述外层反应管的两端管道相连;
所述压力系统(6)左右两端分别通过截止阀F4和截止阀F12与所述截止阀F1和所述截止阀F7之间、所述截止阀F10和所述截止阀F14之间管道相连;
所述截止阀F2和所述截止阀F5之间通过截止阀F3与所述截止阀F4和所述压力系统(6)之间管道相连,所述截止阀F8和所述截止阀F13之间通过截止阀F11与所述截止阀F12和所述压力系统(6)之间管道相连。
6.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述压力系统(6)包括泵组(61)、截止阀F6、截止阀F9和压力控制模块,两个所述压力控制模块分别设置在所述泵组(61)的左右两端,两个所述压力控制模块的外端分别与所述截止阀F6和所述截止阀F9管道相连。
7.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述连通结构为具有通孔的面状结构。
8.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述连通结构包括匀气装置(121)、气流导通管(122)、匀气通孔(123),所述匀气装置(121)中心和所述内层反应管及所述气流导通管(122)分别相连,所述匀气装置(121)和所述气流导通管(122)上分别均匀分布多个所述匀气通孔(123),所述匀气通孔(123)用于实现所述内层反应管与所述外层反应管的内腔相通。
9.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述化学气相沉积设备还包括加热炉体及开合装置(2),所述加热炉体及开合装置(2)设置在所述外层反应管的垂直方向外围,所述加热炉体及开合装置(2)为中空管状结构,所述外层反应管放置在所述加热炉体及开合装置(2)的内部空腔中,所述加热炉体及开合装置(2)用于对所述外层反应管和所述内层反应管加热。
10.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于,所述化学气相沉积设备还包括内腔直线旋转装置(7),所述内腔直线旋转装置(7)安装在所述内层反应管的任一端,用于旋转所述内层反应管。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的