[实用新型]一种雪崩光电二极管有效

专利信息
申请号: 201920732693.1 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN209675304U 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 曾磊;李瑞鑫;王肇中 申请(专利权)人: 武汉光谷量子技术有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107
代理公司: 42225 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 邱云雷<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 430206 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种雪崩光电二极管,包括:InP衬底层;层叠设置于InP衬底层上的吸收层;层叠设置于吸收层上的非掺杂InP层,非掺杂InP层上开设有环形凹槽,及由环形凹槽围设而成的台阶,沿环形凹槽的槽壁和槽底及沿台阶的底部形成扩散了P型导电杂质的P型导电区域,涉及光电二极管技术领域。本实用新型采用在非掺杂InP层上开设环形凹槽,及由环形凹槽围设而成的台阶,环形凹槽的深度可以用台阶仪等工具测量,较容易监控,通过环形凹槽的深度精确控制了P型导电区域的扩散深度并形成深槽保护环结构,有利于提升雪崩光电二极管的性能,实现高增益和低噪声,可重复性好、成品率高、使用性能好。
搜索关键词: 环形凹槽 非掺杂 雪崩光电二极管 本实用新型 层叠设置 衬底层 吸收层 围设 光电二极管 扩散 可重复性 使用性能 成品率 低噪声 高增益 环结构 台阶仪 槽壁 深槽 测量 监控
【主权项】:
1.一种雪崩光电二极管,其特征在于,包括:/nInP衬底层(1);/n层叠设置于所述InP衬底层(1)上的吸收层(3);/n层叠设置于所述吸收层(3)上的非掺杂InP层(6),所述非掺杂InP层(6)上开设有环形凹槽(7),及由所述环形凹槽(7)围设而成的台阶(8),沿所述环形凹槽(7)的槽壁和槽底及沿所述台阶(8)的底部形成扩散了P型导电杂质的P型导电区域(9)。/n
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