[实用新型]一种雪崩光电二极管有效

专利信息
申请号: 201920732693.1 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN209675304U 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 曾磊;李瑞鑫;王肇中 申请(专利权)人: 武汉光谷量子技术有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107
代理公司: 42225 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 邱云雷<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 430206 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 环形凹槽 非掺杂 雪崩光电二极管 本实用新型 层叠设置 衬底层 吸收层 围设 光电二极管 扩散 可重复性 使用性能 成品率 低噪声 高增益 环结构 台阶仪 槽壁 深槽 测量 监控
【权利要求书】:

1.一种雪崩光电二极管,其特征在于,包括:

InP衬底层(1);

层叠设置于所述InP衬底层(1)上的吸收层(3);

层叠设置于所述吸收层(3)上的非掺杂InP层(6),所述非掺杂InP层(6)上开设有环形凹槽(7),及由所述环形凹槽(7)围设而成的台阶(8),沿所述环形凹槽(7)的槽壁和槽底及沿所述台阶(8)的底部形成扩散了P型导电杂质的P型导电区域(9)。

2.如权利要求1所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:还包括分别设置于雪崩光电二极管上下两侧的P电极(11)和N电极(12)。

3.如权利要求2所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述P电极(11)设置于所述台阶(8)上。

4.如权利要求2所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述N电极(12)为中空的环形。

5.如权利要求4所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述InP衬底层(1)为高掺杂InP层,所述N电极(12)设置于所述InP衬底层(1)上。

6.如权利要求2所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述P电极(11)为中空的环形。

7.如权利要求6所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述P电极(11)设置于所述环形凹槽(7)内。

8.如权利要求2所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述InP衬底层(1)与所述吸收层(3)之间还设置有InP缓冲层(2)。

9.如权利要求8所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述InP缓冲层(2)为高掺杂InP层,所述P型导电区域(9)周边为P型周边区域(10),由所述P型周边区域(10)开设有连通至InP缓冲层(2)的通槽(13),所述N电极(12)设置于所述InP缓冲层(2)上。

10.如权利要求1所述的一种雪崩光电二极管,其特征在于:所述吸收层(3)与所述非掺杂InP层(6)之间还依次层叠设置有InGaAsP过渡层(4)和InP电荷层(5)。

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