[实用新型]一种高效恢复整流二极管的酸洗装置有效
| 申请号: | 201920534004.6 | 申请日: | 2019-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN210129486U | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
| 发明(设计)人: | 高建明;侯立磊;王秀庭;潘淑松;历余良 | 申请(专利权)人: | 南京创锐半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 郭俊玲 |
| 地址: | 211505 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型提供一种高效恢复整流二极管的酸洗装置,包括壳体,所述壳体的顶端分布设置有水管,水管下端分布设置有喷头,壳体内的底端设置有存液槽,存液槽左侧分布设置有上水管,存液槽的右侧设置有排水管和进水管,排水管设置在进水管的下端,壳体左侧外壁的中部设置有电机,电机与壳体内设置的电机杆相连接,电机杆右侧设置有第一放置板和第二放置板,壳体的右侧内壁上设置有转轴,第一放置板和第二放置板均与转轴相连接,壳体的后侧壁上设置有伸缩顶出杆,第一放置板与第二放置板之间设置有开口,壳体的前侧设置有开口,伸缩顶出杆与开口相对应设置,本实用新型在提高了酸洗的效率同时也提高了酸洗的质量。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 高效 恢复 整流二极管 酸洗 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





