[实用新型]半导体设备有效
| 申请号： | 201920026431.3 | 申请日： | 2019-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN209119040U | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 李国强;吴一凡;林宗贤;吴孝哲 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种能够工艺腔室内壁进行清洁的半导体设备，涉及半导体设备设计制造领域。该半导体设备包括：工艺腔室；电极对，被配置为能够在工艺腔室内和工艺腔室外往复运动的机构；电源，电极对与电源电连接，当电极对移动至工艺腔室内时，通电的电极对能够对工艺腔室内的气体进行电离。本实用新型提供的半导体设备通过其腔体内电极对产生的等离子体对工艺腔室的内壁进行清洁，降低了清洁设备的能源消耗，同时能够有效保证对工作腔体内壁的清洁程度。此外，电极对被设置为可伸缩结构，能够在执行工艺过程时将其缩至工艺腔室外部，防止其与工艺过程的互相干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺腔 半导体设备 电极 本实用新型 工艺过程 工艺腔室 室内 清洁 等离子体 工作腔体内壁 电源电连接 可伸缩结构 互相干扰 能源消耗 清洁设备 体内电极 室内壁 室外部 电离 内壁 电源 室外 通电 配置 移动 制造 保证 | ||
【主权项】：
1.一种半导体设备，其特征在于，包括：工艺腔室；电极对，安装在活动机构上，能够进入和离开所述工艺腔室；电源，所述电极对与所述电源电连接，进入所述工艺腔室内的通电状态的所述电极对能够对所述工艺腔室内的气体进行电离。
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