[发明专利]化学气相沉积设备流场均匀控制的方法

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积设备流场均匀控制的方法，包括以下步骤：（1）划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域上开设进料口并在内表面安装流量传感器和搅拌叶；（2）采集实际流量值；（3）计算出各控制空间的实际流量值与各控制空间的理论流量值之间的差值；（4）根据差值进行流量补偿。本发明将沉积设备的反应区分成多个控制空间，生产时，分空间实时监控沉积炉内影响沉积的物质的流量，通过对采集的实际流量与理论流量比较，得到误差补偿结果，以此分空间进行影响沉积的物质的流量补偿，从而保证沉积炉内流体场分布均匀。