[发明专利]一种排液罩以及半导体清洗设备有效
申请号: | 201911377392.2 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111069219B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 邓信甫 | 申请(专利权)人: | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司 |
主分类号: | B08B15/02 | 分类号: | B08B15/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆英静 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种排液罩以及半导体清洗设备,采用本发明的排液罩,通过旋转外壳体或者内壳体能够切换所述进气通道与所述吸气孔导通与非导通,当进气通道与吸气孔导通时,位于排液罩的气体能够通过进气通道和吸气孔进入排气腔体中,并由排气口排出;当进气通道与吸气孔非导通时,位于排液罩的气体并不能通过该设备排出;与此同时,汇集在排液腔体中的液体经过排液口排出。可见采用本发明的排液罩能够同时进行排液或排气或者只排液,一个设备同时具备排液和排气两种功能,从而减小了设备的占用空间。 | ||
搜索关键词: | 一种 排液罩 以及 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司,未经上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911377392.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。