[发明专利]低反射复合体层、其制作方法及其应用于阵列基板有效
| 申请号： | 201911356683.3 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN110941115B | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 吴豪旭 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 吕姝娟 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种低反射复合体层及其制作方法与阵列基板。低反射复合体层包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。本发明通过利用低反射复合体层的复合体材料形貌加强对可见光源的吸收，从而降低其反射率，且该方法成本低。本发明提供的阵列基板中的缓冲层采用所述低反射复合体层，避免了产生强烈的反光现象，节省了成本，并提高了对比度和观赏视觉效果，提升了产品竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 复合体 制作方法 及其 应用于 阵列 | ||
【主权项】：
暂无信息
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