[发明专利]一种高效二极管制备酸洗装置有效
申请号: | 201911166069.0 | 申请日: | 2019-11-25 |
公开(公告)号: | CN111048446B | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
发明(设计)人: | 孙慰 | 申请(专利权)人: | 东台市高科技术创业园有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 34152 | 代理人: | 姜玲玲 |
地址: | 224000 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及电子器件制造技术领域,且公开了一种高效二极管制备酸洗装置,包括外箱体、滑行平台、进液管、进水口、出水口和酸液排出口,所述外箱体的背面与滑行平台的正面固定连接,所述进液管固定安装在外箱体与振动箱体的右上角处。通过酸洗固定架和酸洗盘之间的设置,使得可以将多个存放二极管的酸洗盘固定在酸洗固定架上,并使其一起伸入到酸液中进行酸洗,增加一次性酸洗二极管的数量,增加酸洗效率,同时通过卡栓与酸洗固定架上开设的锁孔的配合设置,利用简单的结构对酸洗盘进行固定,增加操作人员的安装效率,并避免复杂的结构无法全部为抗腐蚀材料制成,提高了装置的抗腐蚀性,增加装置的使用年限,降低维修成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 二极管 制备 酸洗 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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