[发明专利]一种薄膜晶体管、显示面板及薄膜晶体管的制作方法在审

专利信息
申请号: 201911024849.1 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN110729359A 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 谢华飞 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 44570 深圳紫藤知识产权代理有限公司 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管、显示面板及薄膜晶体管的制作方法。薄膜晶体管包括从下至上依次层叠设置的基板、栅极层、介电层、有源层、源漏极层;所述栅极层上表面设有复数个加强部;其中,所述加强部用于增大栅极层上表面的面积,使所述栅极层与所述有源层的有效对接面积增大,减小所述薄膜晶体管的宽度和长度,减小所述薄膜晶体管的寄生电容。本发明通过设置所述加强部与所述有源层的有效对接面积增大,使得所述栅极层所占面积减少同时又不影响有源层的通电性,提高了显示面板的穿透率,减少了显示面板的寄生电容,提高了薄膜晶体管和显示面板的性能。
搜索关键词: 薄膜晶体管 栅极层 显示面板 源层 寄生电容 面积增大 有效对接 上表面 减小 面积减少 依次层叠 穿透率 介电层 源漏极 复数 基板 通电 制作
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:/n基板;/n栅极层,设于所述基板上;所述栅极层上表面设有复数个加强部;/n介电层,设于所述栅极层上且完全包覆所述栅极层;/n有源层,设于所述介电层上且完全包覆所述介电层;以及/n源漏极层,设于所述有源层上且与所述有源层电连接;所述源漏极层包括源电极和漏电极,所述源电极设于所述有源层的一端,所述漏电极设于所述有源层的另一端;/n其中,所述加强部用于增大所述栅极层上表面的面积,使所述栅极层与所述有源层的有效对接面积增大,减小所述薄膜晶体管的宽度和长度,减小所述薄膜晶体管的寄生电容。/n
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