[发明专利]一种薄膜晶体管、显示面板及薄膜晶体管的制作方法

权利要求书

1.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：

基板；

栅极层，设于所述基板上；所述栅极层上表面设有复数个加强部；

介电层，设于所述栅极层上且完全包覆所述栅极层；

有源层，设于所述介电层上且完全包覆所述介电层；以及

源漏极层，设于所述有源层上且与所述有源层电连接；所述源漏极层包括源电极和漏电极，所述源电极设于所述有源层的一端，所述漏电极设于所述有源层的另一端；

其中，所述加强部用于增大所述栅极层上表面的面积，使所述栅极层与所述有源层的有效对接面积增大，减小所述薄膜晶体管的宽度和长度，减小所述薄膜晶体管的寄生电容。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述加强部呈阵列式排布于所述栅极层上。

3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，所述加强部呈柱形、条形、网格形中的任一种。

4.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，还包括

阻挡层，设于所述有源层上；

所述源电极设于所述有源层及所述阻挡层的一端，所述漏电极设于所述有源层及所述阻挡层的另一端。

5.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，还包括

钝化层，设于所述源漏极层上且完全包覆所述钝化层及所述有源层；以及

像素电极，设于所述钝化层上且与所述漏电极电连接。

6.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，包括步骤：

提供一基板；

在所述基板上制作一层金属膜并图案化处理形成一栅极层；在所述栅极层上表面制作复数个加强部；

在所述栅极层上制作一介电层，所述介电层完全包覆所述栅极层；

在所述介电层上制作一有源层，所述有源层完全包覆所述介电层；以及

在所述有源层上制作一层金属膜并图案化处理形成一源漏极层，所述源漏极层与所述有源层电连接；所述源漏极层包括源电极和漏电极，所述源电极设于所述有源层的一端，所述漏电极设于所述有源层的另一端。

7.根据权利要求6所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，在所述栅极层上表面制作复数个加强部步骤具体包括：

将通孔超薄氧化铝膜模板设置在所述栅极层一侧，用电子束蒸发或物理气相沉积方式通过所述超薄氧化铝膜模板制作所述加强部，再用氢氧化钠溶液将所述超薄氧化铝膜模板刻蚀去除。

8.根据权利要求6所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，在所述栅极层上表面制作复数个加强部步骤具体包括：

在所述栅极层上涂覆一光阻层，通过曝光显影在所述光阻层上形成通孔，用电子束蒸发或物理气相沉积在所述通孔内制作所述加强部，再清洗去除所述光阻层。

9.根据权利要求6所述的薄膜晶体管的制作方法，在制作所述有源层步骤之后以及在制作所述源漏极层步骤之前还包括：

在所述有源层上制作一阻挡层；

其中，在制作所述源漏极层步骤中，所述源电极设于所述有源层及所述阻挡层的一端，所述漏电极设于所述有源层及所述阻挡层的另一端。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的薄膜晶体管。