[发明专利]一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法在审
申请号: | 201910954341.5 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN110729352A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 王颖;时定坤;曹菲;于成浩;包梦恬 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/47 | 分类号: | H01L29/47;H01L21/329;H01L29/872 |
代理公司: | 11335 北京汇信合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张焕响 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法,在Ti/4H‑SiC的肖特基二极管中插入一层Al | ||
搜索关键词: | 势垒 肖特基二极管 碳化硅 薄膜层 减小 薄膜 肖特基势垒 原子层沉积 不均匀性 器件功耗 泄露电流 电势差 可调性 偶极子 溅射 金属 生长 | ||
【主权项】:
1.一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法,其特征在于:在碳化硅上溅射沉积具有低势垒和低正向压降的肖特基金属层(5),并在肖特基金属层(5)和碳化硅之间插入Al
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