[发明专利]一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法在审

专利信息
申请号: 201910954341.5 申请日: 2019-10-09
公开(公告)号: CN110729352A 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 王颖;时定坤;曹菲;于成浩;包梦恬 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L29/47 分类号: H01L29/47;H01L21/329;H01L29/872
代理公司: 11335 北京汇信合知识产权代理有限公司 代理人: 张焕响
地址: 310018 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法,在Ti/4H‑SiC的肖特基二极管中插入一层Al
搜索关键词: 势垒 肖特基二极管 碳化硅 薄膜层 减小 薄膜 肖特基势垒 原子层沉积 不均匀性 器件功耗 泄露电流 电势差 可调性 偶极子 溅射 金属 生长
【主权项】:
1.一种碳化硅肖特基二极管的势垒调节方法,其特征在于:在碳化硅上溅射沉积具有低势垒和低正向压降的肖特基金属层(5),并在肖特基金属层(5)和碳化硅之间插入Al
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