[发明专利]一种成像质量分析方法及其装置有效
| 申请号： | 201910887931.0 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110533662B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 张硕;张浩;陈丽莉;薛鸿臻;楚明磊;闫桂新;孙玉坤;赵晨曦;董泽华;彭项君;吕耀宇;薛亚冲;何惠东;范清文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种成像质量分析方法及其装置，应用于成像系统中，成像系统包括：空间光调制器，空间光调制器包括：阵列设置的像素单元，其中，该方法包括：根据像素单元的结构参数，获得空间光调制器的透过率分布函数；结构参数为开口率；根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数；根据成像质量分析参数对成像系统的成像质量进行分析。本申请提供的成像质量分析方法通过考虑像素结构的结构参数以对成像系统的成像系统进行分析，使得成像质量的分析更为精确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成像 质量 分析 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像质量分析方法，其特征在于，应用于成像系统中，成像系统包括：空间光调制器，所述空间光调制器包括：阵列设置的像素单元，所述方法包括：/n根据像素单元的结构参数，获得空间光调制器的透过率分布函数；所述结构参数为开口率；/n根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数；/n根据成像质量分析参数对所述成像系统的成像质量进行分析。/n
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