[发明专利]一种成像质量分析方法及其装置

说明书

一种成像质量分析方法及其装置，应用于成像系统中，成像系统包括：空间光调制器，空间光调制器包括：阵列设置的像素单元，其中，该方法包括：根据像素单元的结构参数，获得空间光调制器的透过率分布函数；结构参数为开口率；根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数；根据成像质量分析参数对成像系统的成像质量进行分析。本申请提供的成像质量分析方法通过考虑像素结构的结构参数以对成像系统的成像系统进行分析，使得成像质量的分析更为精确。

技术领域

本文涉及光学技术领域，具体一种成像质量分析方法及其装置。

背景技术

近些年来，随着计算机技术的不断发展，全息投影显示逐渐成为国内外三维立体显示领域的研究热点之一。全息投影显示通过计算机生成全息图，然后加载到空间光调制器上并利用激光照射形成衍射图像，它能够完整记录和重建三维物体，提供人眼视觉系统所需的全部深度信息。空间光调制器的受控单元为独立的像素单元，每个单元可独立接收光信号或电信号等控制信号。

在进行全息投影时，激光射入空间光调制器中时发生衍射现象进而形成衍射图像，相关技术中通过对成像质量进行分析来预见成像时可能会产生的问题，以在成像时进行消除。经发明人研究发现，相关技术中的成像质量分析方法未考虑像素单元的开口率对成像质量的影响，然而对于部分空间光调制器而言，像素单元的开口率的影响是不可忽视的，因此，采用相关技术中的成像质量分析方法对该类空间光调制器进行分析时精度不高。

发明内容

本申请提供了一种成像质量分析方法及其装置，考虑了像素单元的开口率对成像质量的影响，提高了成像质量分析精度。

第一方面，本申请提供了一种成像质量分析方法，应用于成像系统中，成像系统包括：空间光调制器，所述空间光调制器包括：阵列设置的像素单元，所述方法包括：

根据像素单元的结构参数，获得空间光调制器的透过率分布函数；所述结构参数为开口率；

根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数；

根据成像质量分析参数对所述成像系统的成像质量进行分析。

可选地，所述成像系统还包括：光源器件、成像器件和控制器件；

所述光源器件用于向空间光调制器发射激光；所述控制器件，与所述空间光调制器电连接，用于向空间光调制器输入相位图，以使得空间光调制器通过相位图调制透过其光线的相位；所述成像器件用于根据空间光调制器射出的光线成像。

可选地，所述成像质量分析参数包括：成像器件上的光强分布和空间光调制器的衍射效率。

可选地，所述根据像素单元的结构参数，获得空间光调制器的透过率分布函数包括：

根据像素单元的开口率，获得像素单元的开口边长；

根据所述像素单元的开口边长，获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数。

可选地，所述根据像素单元的开口率，获得像素单元的开口边长包括：

根据像素单元的开口率和像素单元的边长，采用公式：

获得像素单元的开口边长Δx′，其中，K为像素单元的开口率，Δx为像素单元的边长。

可选地，所述空间光调制器包括：第一状态和第二状态，其中，第一状态为未向空间光调制器未施加电压时的状态，第二状态为向空间光调制器施加电压时的状态；

当空间光调制器处于第一状态时，所述根据所述像素单元的开口边长，获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数包括：

根据像素单元的开口边长，采用公式