[发明专利]一种成像质量分析方法及其装置有效
申请号: | 201910887931.0 | 申请日: | 2019-09-19 |
公开(公告)号: | CN110533662B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 张硕;张浩;陈丽莉;薛鸿臻;楚明磊;闫桂新;孙玉坤;赵晨曦;董泽华;彭项君;吕耀宇;薛亚冲;何惠东;范清文 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鹏 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 成像 质量 分析 方法 及其 装置 | ||
1.一种成像质量分析方法,其特征在于,应用于成像系统中,成像系统包括:空间光调制器,所述空间光调制器包括:阵列设置的像素单元,所述方法包括:
根据像素单元的结构参数,获得空间光调制器的透过率分布函数;所述结构参数为开口率;
根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数;
根据成像质量分析参数对所述成像系统的成像质量进行分析;
所述根据像素单元的结构参数,获得空间光调制器的透过率分布函数包括:
根据像素单元的开口率,获得像素单元的开口边长;
根据所述像素单元的开口边长,获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述成像系统还包括:光源器件、成像器件和控制器件;
所述光源器件用于向空间光调制器发射激光;所述控制器件,与所述空间光调制器电连接,用于向空间光调制器输入相位图,以使得空间光调制器通过相位图调制透过其光线的相位;所述成像器件用于根据空间光调制器射出的光线成像。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述成像质量分析参数包括:成像器件上的光强分布和空间光调制器的衍射效率。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据像素单元的开口率,获得像素单元的开口边长包括:
根据像素单元的开口率和像素单元的边长,采用公式:
获得像素单元的开口边长Δx′,其中,K为像素单元的开口率,Δx为像素单元的边长。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述空间光调制器包括:第一状态和第二状态,其中,第一状态为未向空间光调制器未施加电压时的状态,第二状态为向空间光调制器施加电压时的状态;
当空间光调制器处于第一状态时,所述根据所述像素单元的开口边长,获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数包括:
根据像素单元的开口边长,采用公式
获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数t(x,y),其中,comb()为梳状函数,rect()为矩形函数,*为卷积运算;
当空间光调制器处于第二状态时,所述根据所述像素单元的开口边长,获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数包括:
根据像素单元的开口边长,采用公式
获得空间光调制器在空域上的透过率分布函数t(x,y),其中,exp()为指数函数,N为相位回卷所需的像素单元个数。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据空间光调制器的透过率分布函数获得成像系统的成像质量分析参数包括:
根据空间光调制器在空域上的透过率分布函数,获得空间光调制器在频域上的透过率分布函数;
根据空间光调制器在频域上的透过率分布函数获得成像器件上的光强分布函数;
根据成像器件上的光强分布函数获得成像器件上的光强分布和空间光调制器的衍射效率。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据空间光调制器在空域上的透过率分布函数,获得空间光调制器在频域上的透过率分布函数包括:
对空间光调制器在空域上的透过率分布函数进行傅里叶变换,获得空间光调制器在频域上的透过率分布函数。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述根据空间光调制器在频域上的透过率分布函数获得成像器件上的光强分布函数包括:采用公式
获得成像器件上的光强分布函数I(x,y),其中,A为光源器件射出的光线的振幅,λ为光源器件射出的光线的波长,z为空间光调制器与成像器件之间的距离,T(fx,fy)为空间光调制器在频域上的透过率分布函数。
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