[发明专利]一种抗辐射聚酰亚胺复合膜的制备方法在审
申请号: | 201910744025.5 | 申请日: | 2019-08-13 |
公开(公告)号: | CN110551281A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 王文静 | 申请(专利权)人: | 合肥中汇睿能能源科技有限公司 |
主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10;C08K9/06;C08K3/38;C08J5/18;C08L79/08 |
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地址: | 230000 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及聚酰亚胺复合膜制备技术领域,具体涉及一种抗辐射聚酰亚胺复合膜的制备方法,包括以下步骤:氮化硼改性、原料纯化、聚酰胺酸的制备和成膜,制得的改性氮化硼在聚酰胺酸溶液中分散均匀,并通过氢键作用于聚酰胺酸,复合成膜效果好。制备的复合膜在 | ||
搜索关键词: | 制备 聚酰亚胺复合膜 聚酰胺酸 热学性能 氮化硼 抗辐射 改性 聚酰胺酸溶液 制备技术领域 辐射源 辐照 成膜效果 分散均匀 辐射环境 辐照剂量 航空航天 介电常数 介电性能 力学性能 原料纯化 复合膜 成膜 氢键 复合 应用 | ||
【主权项】:
1.一种抗辐射聚酰亚胺复合膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n1)氮化硼改性:甲基三乙氧基硅烷与乙醇混合均匀后,加入水,使用乙酸调节pH至2.5-3.0,加入六方氮化硼,常温反应0.5-1.0h后,行星式球磨机球磨4.0-6.0h,离心机离心15-20min,取沉淀物,120℃真空干燥5.0-8.0h,研磨粉碎,即得改性氮化硼;/n2)原料纯化:使用乙酸酐重结晶均苯四甲酸二酐,160℃干燥3.0h,研磨后继续160℃干燥2.0h制得纯化的均苯四甲酸二酐,使用乙醇重结晶4,4’-二氨基二苯醚,110℃干燥3.0h,研磨后继续110℃干燥2.0h制得纯化的4,4’-二氨基二苯醚,向N-甲基吡咯烷酮中加入五氧化二磷,静置0.5h后减压蒸馏,制得纯化的N-甲基吡咯烷酮;/n3)聚酰胺酸的制备;将纯化的4,4’-二氨基二苯醚加至纯化的N-甲基吡咯烷酮中,搅拌均匀后,降温至5-10℃,间隔定量添加纯化的均苯四甲酸二酐,添加完毕后,常温反应2.5-3.0h,制得聚酰胺酸。/n4)成膜:常温下将步骤1)制得的改性氮化硼缓慢加至步骤3)制得的聚酰胺酸中,搅拌5.0-6.0h,升温至60℃,继续搅拌0.5h后,快速倒在玻璃板上铺膜,按照设定程序升温,80℃保持2.0h,100℃保持2.0h,120℃保持2.0h,140℃保持2.0h,160℃保持2.0h,200℃保持1.0h,240℃保持1.0h,320℃保持0.5h,冷却至室温,将玻璃板浸入去离子水中使薄膜脱落,真空干燥即得。/n
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