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- [发明专利]成膜装置、成膜头和成膜方法-CN201080044833.8有效
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小野裕司;林辉幸
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东京毅力科创株式会社
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2010-09-30
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2012-07-11
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C23C16/455
- 提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
- 装置成膜头方法
- [发明专利]成膜装置、成膜系统和成膜方法-CN200780029265.2无效
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松林信次;茂山和基;户部康弘
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东京毅力科创株式会社
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2007-08-08
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2009-08-05
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C23C14/56
- 本发明提供成膜装置、成膜系统和成膜方法。该成膜系统能够避免在有机EL元件等的制造工序中所形成的各层的相互污染、而且所占空间也小、且具有高生产率。成膜装置(13)用于在基板上进行成膜，其中，在处理容器(30)的内部包括用于成膜第1层的第1成膜机构(35)和用于成膜第2层的第2成膜机构(36)。设置用于使处理容器(30)内减压的排气口(31)，并将第1成膜机构(35)配置在相比第2成膜机构(36)更靠近上述排气口(31)的位置上。第1成膜机构(35)例如利用蒸镀在基板上成膜第1层，第2成膜机构(36)例如利用溅射在基板上成膜第2层。
- 装置系统方法
- [发明专利]成膜装置、成膜系统及成膜方法-CN200780029415.X无效
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茂山和基;野泽俊久
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东京毅力科创株式会社
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2007-08-08
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2009-08-05
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C23C14/24
- 本发明提供一种能避免在有机EL元件等的制造工序中形成的各层的相互污染、且占地面积较小、生产率较高的成膜系统。一种在基板(G)上成膜的成膜装置(13)，在处理容器(30)的内部具有用于形成第1层的第1成膜机构(35)和用于形成第2层的第2成膜机构(36)，第1成膜机构(35)包括：配置于处理容器(30)的内部的、用于向基板供给成膜材料的蒸气的喷嘴(34)；配置在处理容器的外部的、用于产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部(45)；将在蒸气产生部(45)产生的成膜材料的蒸气输送到喷嘴(34)的配管(46)。
- 装置系统方法
- [实用新型]溶液滴鉴定试片成膜效果的装置-CN201020140685.7无效
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李宇春;张芳
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长沙理工大学
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2010-03-25
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2010-12-29
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G01N21/78
- 本实用新型公开了一种溶液滴鉴定试片成膜效果的装置，包括塑料制的方盒和嵌在方盒上的槽，在所述的塑料方盒(3)的右侧设有凹槽，槽内正好可以放置滴瓶(2)，滴瓶(2)内装有酸性硫酸铜溶液，用于鉴定试片成膜效果上的两个按钮分别对应开始计时及暂停功能，当滴管(1)从滴瓶(2)吸取酸性硫酸铜溶液滴并滴在试片上的同时，开启计时器(7)的计时功能，当发现液滴颜色由蓝变为红色时，按计时器(7)的暂停功能按钮，从而反映金属试片成膜效果本实用新型提供一种实现金属试片成膜效果鉴定的装置，该装置结构简单、性能可靠、实用性强。
- 溶液鉴定试片效果装置
- [发明专利]成膜装置、成膜方法-CN200610005914.2无效
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四谷真一;金丸真二
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精工爱普生株式会社
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2006-01-19
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2006-09-20
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C23C14/04
- 本发明提供一种能够可靠地得到多个膜图案的成膜装置及成膜方法。本发明的成膜装置，其特征在于，具有：掩模部件，其由硅构成并具有所定图案的第1开口部(31)；磁性部件(4)，其由磁性材料构成并具备第(2)开口部(41)，以在该第(2)开口部(31)的俯视内侧配设上述第1开口部的方式与上述掩模部件(3)对位而成；基板夹持用部件(1)，其在与上述磁性部件(4)之间从该磁性部件(4)侧依次夹持上述掩模部件(3)和被成膜基板(2)，同时通过在该磁性部件(4)之间所产生的磁力将上述掩模部件(3)和上述被成膜基板(2)密接。
- 装置方法
- [发明专利]成膜控制装置、成膜装置以及成膜方法-CN202280005853.7在审
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大泷芳幸;松平学幸;山口刚;宫内充祐
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株式会社新柯隆
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2022-02-04
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2023-07-11
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C23C14/54
- 成膜控制装置具有：光源(42)，其对配置于旋转体(25)的基板(S)照射光；受光部(46)，对于从所述光源照射的光，该受光部接收透过形成在所述基板上的薄膜的层的透过光或者被形成在所述基板上的薄膜的层反射的反射光；位置信息取得部(48)，其取得与所述旋转体的圆周方向的位置对应的位置信息；以及控制部(4)，其对成膜条件进行控制，所述控制部包含：时机控制部，其根据由所述位置信息取得部取得的所述旋转体的圆周方向的位置信息来确定作为目标的基板的位置，对接收从所述光源向该确定的位置的基板照射的光的透过光或者反射光的时机进行控制；膜厚判定部，其根据由所述受光部接收到的透过光或者反射光，计算由多个层构成的薄膜的各层的膜厚，判定所述各层的膜厚与构成具有期望的分光特性的薄膜的各层的目标膜厚的膜厚差；以及成膜条件设定部，其在所述各层的膜厚相对于所述目标膜厚存在规定值以上的膜厚差的情况下，对针对该层的成膜条件进行校正以使得存在该膜厚差的层的膜厚成为该层的目标膜厚，然后设定所述成膜条件。
- 控制装置以及方法
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