[发明专利]阵列基板及采用该阵列基板的制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910706640.7 申请日: 2019-08-01
公开(公告)号: CN110429119B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 向明 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明披露了一种阵列基板及采用该阵列基板的制备方法以及显示装置。通过对所述阵列基板的改进设计,即在光反射层和透明电极之间设置一透明无机层或一透明有机层,并且通过调节无机层或有机层的厚度来达到调整微腔长度的效果,从而间接地减少功能层的厚度,降低蒸镀功能层时精细金属掩模板的堵孔几率。
搜索关键词: 阵列 采用 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:一薄膜晶体管层;一光反射层,所述光反射层设置在所述薄膜晶体管层上;一调节层,所述调节层设置在所述光反射层上;一阳极,所述阳极设置在所述调节层上;一像素定义层,所述像素定义层设置在所述阳极上,所述像素定义层具有根据显示不同颜色的像素所对应的开口部;其中所述调节层为透明材料制成,且所述调节层的厚度是根据不同的所述开口部而相应地设置成一对应的预设厚度。
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