[发明专利]一种HJT电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910554740.2 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110416328A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 龙会跃;成秋云;周奇瑞;罗志高;李斌 申请(专利权)人: 湖南红太阳光电科技有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 周长清;何文红
地址: 410205 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种HJT电池及其制备方法,该电池包括N型硅片,其受光面和背光面上分别设有本征非晶硅层,本征非晶硅层上分别设有P型掺杂非晶硅层和N型掺杂非晶硅层,P型掺杂非晶硅层上依次设有IMO层和ITO层,N型掺杂非晶硅层上设有ITO导电膜层,ITO层和ITO导电膜层上分别设有金属栅线电极。其制备方法包括:对N型硅片进行制绒清洗,沉积/制备本征非晶硅层、P型掺杂非晶硅层、N型掺杂非晶硅层、IMO层、ITO层、ITO导电膜层、金属栅线电极。本发明HJT电池具有优异的电学性能,对于提高异质结电池的应用范围具有十分重要的意义,其制备方法具有工艺简单、量产门槛低、制备成本低、生产效率高等优点。
搜索关键词: 制备 本征非晶硅层 电池 金属栅线电极 背光 异质结电池 电学性能 生产效率 制绒清洗 受光面 沉积 量产 门槛 应用
【主权项】:
1.一种HJT电池,其特征在于,包括N型硅片(1),所述N型硅片(1)的受光面和背光面上分别设有本征非晶硅层(2),所述N型硅片(1)受光面的本征非晶硅层(2)上设有P型掺杂非晶硅层(3),所述N型硅片(1)背光面的本征非晶硅层(2)上设有N型掺杂非晶硅层(4),所述P型掺杂非晶硅层(3)上依次设有IMO层(5)和ITO层(6),所述N型掺杂非晶硅层(4)上设有ITO导电膜层(7),所述ITO层(6)和ITO导电膜层(7)上分别设有金属栅线电极(8)。
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