[发明专利]金属-绝缘体-金属电容器结构在审
申请号: | 201910481900.5 | 申请日: | 2019-06-04 |
公开(公告)号: | CN110783320A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 黄致凡;高弘昭;萧远洋;萧琮介;沈香谷;陈蕙祺;陈殿豪;陈燕铭 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/64 | 分类号: | H01L23/64 |
代理公司: | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张福根;付文川 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种金属‑绝缘体‑金属电容器结构包含半导体基板和位于半导体基板上方的底部导电层,底部导电层相对于半导体基板的顶表面具有倾斜侧壁。金属‑绝缘体‑金属电容器结构还包括位于底部导电层上方的顶部导电层,顶部导电层相对于半导体基板的顶表面具有垂直侧壁。金属‑绝缘体‑金属电容器结构还包括介于底部导电层和顶部导电层之间的绝缘层,绝缘层覆盖底部导电层的倾斜侧壁。 | ||
搜索关键词: | 底部导电层 半导体基板 绝缘体 顶部导电层 金属电容器 倾斜侧壁 顶表面 金属 绝缘层 绝缘层覆盖 垂直侧壁 | ||
【主权项】:
1.一种金属-绝缘体-金属电容器结构,包括:/n一半导体基板;/n一底部导电层,位于该半导体基板上方,其中该底部导电层相对于该半导体基板的一顶表面具有一倾斜侧壁;/n一顶部导电层,位于该底部导电层上方,其中该顶部导电层相对于该半导体基板的该顶表面具有一垂直侧壁;以及/n一绝缘层,介于该底部导电层和该顶部导电层之间,其中该绝缘层覆盖该底部导电层的该倾斜侧壁。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910481900.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电容器结构
- 下一篇:一种制作SMIM电容结构的方法及电容结构