[发明专利]立体存储器元件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910426660.9 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN111952307A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 胡志玮;叶腾豪;江昱维 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种立体存储器元件及其制作方法,该立体存储器元件包括多层叠层结构、存储层通道层以及开关元件。多层叠层结构包括多个导电层、多个绝缘层和至少一个开口。绝缘层与导电层沿着一个堆叠方向交错堆叠,开口穿过导电层。存储层与导电层至少部分重叠。通道层位于开口中,并与存储层至少部分重叠。开关元件包括:位于多层叠层结构上方,并与通道层电性连接的第一通道插塞;环绕第一通道插塞的栅极介电层;以及环绕栅极介电层的栅极。
搜索关键词: 立体 存储器 元件 及其 制作方法
【主权项】:
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