[发明专利]基座旋转装置及反应腔室在审
| 申请号： | 201910272001.4 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN111779817A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 许璐;张凇铭 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | F16H57/00 | 分类号： | F16H57/00;F16J15/43;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供的基座旋转装置和反应腔室，包括旋转轴、固定基座和密封结构，其中，旋转轴中具有进气通道，固定基座具有空腔，固定基座的一侧设置有开口，旋转轴自开口伸入固定基座中，固定基座上还设置有通孔，通孔用于将向进气通道输送气体，密封结构设置在固定基座中，且套设在旋转轴上，并且，密封结构为磁流体密封结构，磁流体密封结构用于密封通孔和进气通道的连接处。本发明摒弃现有技术中油液密封，而采用磁流体密封，避免旋转轴与密封结构之间产生滑动摩擦，进而避免长期摩擦导致的旋转轴磨损，另外，由于在磁流体密封结构中不具有油液，从而避免因油液泄漏造成的腔室污染，保证了工艺环境的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 基座 旋转 装置 反应 | ||
【主权项】：
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