[发明专利]基座旋转装置及反应腔室在审
| 申请号： | 201910272001.4 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN111779817A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 许璐;张凇铭 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | F16H57/00 | 分类号： | F16H57/00;F16J15/43;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基座 旋转 装置 反应 | ||
1.一种基座旋转装置，其特征在于，包括：
旋转轴，所述旋转轴中具有进气通道；
固定基座，所述固定基座具有空腔，所述固定基座的一侧设置有开口，所述旋转轴自所述开口伸入所述固定基座中，所述固定基座上还设置有通孔，所述通孔用于将向所述进气通道输送气体；
密封结构，所述密封结构设置在所述固定基座中，且套设在所述旋转轴上；
所述密封结构为磁流体密封结构，所述磁流体密封结构用于密封所述通孔和所述进气通道的连接处。
2.根据权利要求1所述的基座旋转装置，其特征在于，所述磁流体密封结构包括：
环形永磁铁，所述环形永磁铁套设在所述旋转轴上；
环形导磁体，包括分别设置在所述环形永磁铁在轴向上的两侧的导磁部，所述导磁部套设在所述旋转轴上，所述导磁部与所述旋转轴之间具有间隙，所述间隙内填充磁流体。
3.根据权利要求1所述的基座旋转装置，其特征在于，所述磁流体密封结构包括：
环形永磁铁，所述环形永磁铁套设在所述旋转轴上；
环形导磁体，所述环形导磁体的内环面的周向上具有环形槽，所述环形导磁体通过所述环形槽套设在所述环形永磁铁上，所述环形槽与所述环形永磁铁之间具有间隙，所述间隙内填充磁流体。
4.根据权利要求2或3所述的基座旋转装置，其特征在于，所述间隙的取值范围为0.05mm～0.2mm。
5.根据权利要求1-3中任一所述的基座旋转装置，其特征在于，所述旋转轴的至少与所述磁流体密封结构相对应的部位由导磁材料制成，所述固定基座由不导磁材料制成。
6.根据权利要求1-3中任一所述的基座旋转装置旋转轴密封装置，其特征在于，所述基座旋转装置还包括：
轴承，用于将所述旋转轴固定在所述固定基座中。
7.根据权利要求2所述的基座旋转装置，其特征在于，所述环形导磁体的内径小于所述环形永磁铁的内径。
8.根据权利要求3所述的基座旋转装置，其特征在于，所述环形导磁体的内径大于所述环形永磁铁的内径。
9.根据权利要求2或3所述的基座旋转装置，其特征在于，所述磁流体为胶状液体。
10.一种反应腔室，包括基座和用于驱动所述基座旋转的基座旋转装置，其特征在于，所述基座旋转装置包括权利要求1-9中任一所述的基座旋转装置。
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