[发明专利]一种Demux电路的TFT结构在审

专利信息
申请号: 201910261352.5 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN110047849A 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 林志峥
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种Demux电路的TFT结构,包括自下而上依次层叠设置的玻璃基板、第一金属层、半导体层、第一绝缘层和第二金属层;TFT的栅极设置在所述第二金属层中,TFT的源极和TFT的漏极分别设置在所述第一金属层中;所述第一绝缘层的厚度为预设第一值。本发明能够缩小设置Demux电路的区域中TFT结构的尺寸,从而达到缩小Demux电路尺寸的目的。
搜索关键词: 电路 绝缘层 第二金属层 第一金属层 半导体层 玻璃基板 依次层叠 漏极 预设 源极
【主权项】:
1.一种Demux电路的TFT结构,其特征在于,包括自下而上依次层叠设置的玻璃基板、第一金属层、半导体层、第一绝缘层和第二金属层;TFT的栅极设置在所述第二金属层中,TFT的源极和TFT的漏极分别设置在所述第一金属层中;所述第一绝缘层的厚度为预设第一值。
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