[发明专利]液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201910238559.0 申请日: 2019-03-27
公开(公告)号: CN110320712A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 西村淳;近间义雅;平田义晴;今井元;大东彻 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种确保承重力,并且抑制开口率降低的液晶显示装置的制造方法。本发明的液晶显示装置的制造方法包含如下工序:工序(A‑1),在具有薄膜晶体管元件的第一基板的表面上涂布负性光刻胶,而形成第一涂膜;工序(A‑2),对上述第一涂膜在曝光图案处进行曝光,上述曝光图案包含第一曝光区域、以及曝光量设为小于上述第一曝光区域的曝光量的第二曝光区域;工序(A‑3),将上述第一涂膜显影,而在上述第一曝光区域形成第一空间件,并且在上述第二曝光区域形成具有高度小于上述第一空间件的高度的第二空间件。
搜索关键词: 曝光区域 液晶显示装置 涂膜 第一空间 曝光图案 曝光量 制造 薄膜晶体管元件 负性光刻胶 第二空间 第一基板 承重力 开口率 显影 曝光
【主权项】:
1.一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包含如下工序:工序(A‑1),在具有薄膜晶体管元件的第一基板的表面上涂布负性光刻胶,而形成第一涂膜;工序(A‑2),对所述第一涂膜在曝光图案处进行曝光,所述曝光图案包含第一曝光区域、以及曝光量设为小于所述第一曝光区域的曝光量的第二曝光区域;工序(A‑3),将所述第一涂膜显影,而在所述第一曝光区域形成第一空间件,并且在所述第二曝光区域形成具有高度小于所述第一空间件的高度的第二空间件;工序(B‑1),在具有黑矩阵的第二基板的表面上涂布负性光刻胶,而形成第二涂膜;工序(B‑2),对所述第二涂膜在曝光图案处进行曝光,所述曝光图案包含与所述黑矩阵重叠的第三曝光区域、以及与所述黑矩阵重叠并且曝光量被设为所述第三曝光区域的曝光量以下的第四曝光区域;工序(B‑3),将所述第二涂膜显影,而在所述第三曝光区域形成第三空间件,并且在所述第四曝光区域形成具有高度在所述第三空间件的高度以下的第四空间件;工序(C),以所述第一空间件的顶部与所述第三空间件的顶部接触,所述第二空间件的顶部与所述第四空间件的顶部相对且不接触的方式,使所述第一基板与所述第二基板贴合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910238559.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top