[发明专利]液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置在审
申请号: | 201910238559.0 | 申请日: | 2019-03-27 |
公开(公告)号: | CN110320712A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 西村淳;近间义雅;平田义晴;今井元;大东彻 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光区域 液晶显示装置 涂膜 第一空间 曝光图案 曝光量 制造 薄膜晶体管元件 负性光刻胶 第二空间 第一基板 承重力 开口率 显影 曝光 | ||
1.一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包含如下工序:
工序(A-1),在具有薄膜晶体管元件的第一基板的表面上涂布负性光刻胶,而形成第一涂膜;
工序(A-2),对所述第一涂膜在曝光图案处进行曝光,所述曝光图案包含第一曝光区域、以及曝光量设为小于所述第一曝光区域的曝光量的第二曝光区域;
工序(A-3),将所述第一涂膜显影,而在所述第一曝光区域形成第一空间件,并且在所述第二曝光区域形成具有高度小于所述第一空间件的高度的第二空间件;
工序(B-1),在具有黑矩阵的第二基板的表面上涂布负性光刻胶,而形成第二涂膜;
工序(B-2),对所述第二涂膜在曝光图案处进行曝光,所述曝光图案包含与所述黑矩阵重叠的第三曝光区域、以及与所述黑矩阵重叠并且曝光量被设为所述第三曝光区域的曝光量以下的第四曝光区域;
工序(B-3),将所述第二涂膜显影,而在所述第三曝光区域形成第三空间件,并且在所述第四曝光区域形成具有高度在所述第三空间件的高度以下的第四空间件;
工序(C),以所述第一空间件的顶部与所述第三空间件的顶部接触,所述第二空间件的顶部与所述第四空间件的顶部相对且不接触的方式,使所述第一基板与所述第二基板贴合。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,在所述工序(A-2)中,利用半色调掩膜进行曝光。
3.根据权利要求1或2所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,在所述工序(B-2)中,利用半色调掩膜进行曝光。
4.一种液晶显示装置,其特征在于,包括:
具有薄膜晶体管元件的第一基板;
具有黑矩阵的第二基板;
液晶层,其夹持在所述第一基板以及所述第二基板之间;
第一空间件以及第二空间件,其配置在所述第一基板的所述液晶层侧;
第三空间件以及第四空间件,其配置在所述第二基板的所述液晶层侧,
所述第一空间件由负性光刻胶构成,
所述第二空间件由负性光刻胶构成,并且具有小于所述第一空间件高度的高度,
所述第三空间件由负性光刻胶构成,
所述第四空间件由负性光刻胶构成,并且具有所述第三空间件的高度以下的高度,
在不施加负重时,所述第一空间件的顶部与所述第三空间件的顶部接触,并且所述第二空间件的顶部与所述第四空间件的顶部相对且不接触。
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