[发明专利]液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置

说明书

本发明提供一种确保承重力，并且抑制开口率降低的液晶显示装置的制造方法。本发明的液晶显示装置的制造方法包含如下工序：工序(A‑1)，在具有薄膜晶体管元件的第一基板的表面上涂布负性光刻胶，而形成第一涂膜；工序(A‑2)，对上述第一涂膜在曝光图案处进行曝光，上述曝光图案包含第一曝光区域、以及曝光量设为小于上述第一曝光区域的曝光量的第二曝光区域；工序(A‑3)，将上述第一涂膜显影，而在上述第一曝光区域形成第一空间件，并且在上述第二曝光区域形成具有高度小于上述第一空间件的高度的第二空间件。

技术领域

本发明关于液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置。

背景技术

液晶显示装置具有在一对基板之间夹持液晶层的结构。液晶 显示装置中通常而言，设有用于保持一对基板的间隔(液晶层的厚度) 的空间件(例如，专利文献1～4参照)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4991754号公报

专利文献2：日本专利特开2003-84289号公报

专利文献3：日本专利特开2003-186022号公报

专利文献4：日本专利特开2017-167478号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

经过本发明者们研究，已知作为构成液晶显示装置的一对基 板中的一个，在使用具有薄膜晶体管元件的基板的情况下，若在其表 面上使用负性光刻胶(感光性树脂)来形成空间件，则其截面形状成为 锥形状，底部的外缘会大幅地扩大。对此，作为一对基板中的另一个， 使用具有黑矩阵的基板，从而即使在俯视时使空间件用黑矩阵覆盖， 如上所述的空间件的扩大的外缘从黑矩阵露出，有时被视觉确认为液 晶分子的取向散乱。

另一方面，作为提高液晶显示装置的承重力的技术，除了用 于保持一对基板的间隔的主空间件以外，还知道有设置高度低于主空 间件的副空间件的技术。主空间件的顶部总是与对置的基板侧接触， 另一方面，副空间件的顶部在不对液晶显示装置施加负重时，不与对 置的基板侧接触，但若对液晶显示装置施加负重而使一对基板的间隔 变小，则与对置的基板侧接触。其结果是，在对液晶显示装置施加负 重时，能够由主空间件以及副空间件的双方支撑一对基板，因此承重 力提高。从提高承重力的观点出发，期望增大副空间件的顶部与对置 的基板侧的接触面积的、即副空间件的顶部的面积。

对此，经过本发明者们研究，已知：若在具有薄膜晶体管元 件的基板的表面上，使用负性光刻胶，以增大顶部的面积的方式形成 副空间件，底部的面积也增大，随之，副空间件的外缘的扩展变得更 显著。因此，若将副空间件的加宽了的外缘由黑矩阵隐藏，则需要加 宽黑矩阵的宽度，结果而言，可知开口率降低。

如上所述，关于空间件的外缘扩展的原因，经本发明者们各 种研究，已知如下。具有薄膜晶体管元件的基板，一般而言由光透射 率高的透明材料、光反射率高的金属材料等构成。因此，若对在具有 薄膜晶体管元件的基板的表面上所涂布的负性光刻胶进行曝光，则来 自曝光装置的平台的反射光以及杂散光穿过上述的透明材料的基底 区域而照射、或照射来自上述的金属材料的基底区域的反射光以及杂 散光，由此对光刻胶在大于期望的范围内进行曝光。其结果是，形成 外缘大幅地加宽了的空间件。对此，若对在具有黑矩阵的基板的表面 上所涂布的负性光刻胶进行曝光，由于基底所配置的光反射率低的 (光吸收率高)黑矩阵而不需要的反射光以及杂散光受到抑制，因此结 果而言，所形成的空间件的外缘的扩展受到抑制。