[发明专利]图像传感器的制作方法有效

专利信息
申请号: 201910231830.8 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN109950267B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 韩斌;辛君;林宗贤;吴龙江 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种图像传感器的制作方法,其在主体晶圆与载体晶圆之间的缝隙处设置一阻挡层,则在湿法蚀刻阶段,所述阻挡层能够阻挡蚀刻液进入所述缝隙,避免蚀刻液对缝隙的蚀刻,从而避免了缝隙被进一步扩大,降低后续制程中的滑片风险以及金属污染的情况发生的几率,提高产品的良率。
搜索关键词: 图像传感器 制作方法
【主权项】:
1.一种图像传感器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一主体晶圆及一载体晶圆,所述主体晶圆具有相对设置的一第一表面及一第二表面;对所述主体晶圆的第一表面的边缘进行切割,在所述主体晶圆的边缘形成一切割区域及一剥落区域,所述切割区域及所述剥落区域与所述主体晶圆的第一表面具有高度差;以所述主体晶圆的第一表面为键合面,将所述载体晶圆与所述主体晶圆键合,所述剥落区域与所述载体晶圆之间形成一缝隙;自所述主体晶圆的所述第二表面去除部分所述主体晶圆,以第一次减薄所述主体晶圆;形成一阻挡层,所述阻挡层覆盖所述主体晶圆的侧面,并延伸至所述载体晶圆,以遮挡所述缝隙;自所述主体晶圆的第二表面湿法蚀刻所述主体晶圆,以第二次减薄所述主体晶圆;在所述主体晶圆的所述第二表面制作至少一器件,形成所述图像传感器。
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