[发明专利]InGaN基LED外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910177234.6 申请日: 2019-03-08
公开(公告)号: CN111668354B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 理查德·内策尔;周国富 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 王晖;李丙林
地址: 510006 广东省广州市番禺区外*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种InGaN基LED外延片及其制备方法,其中InGaN基LED外延片包括:衬底;InGaN层片,形成于所述衬底的一侧表面,其In含量在40%至90%之间,以确保所述LED外延片能够发射长波长光或近红外射线;p型金属氧化物层片,形成于所述InGaN层片的背朝所述衬底的一侧表面上,以用作对所述InGaN层片的空穴注入层。由于p型金属氧化物(特别是Cu2O)可以容易地实现高p型导电性,实现很高的空穴迁移率,因此本发明中的p型金属氧化物层片可以有效地用作InGaN层片的空穴注入层,从而避免使用现有技术中的宽带隙低In含量的p型InGaN或纯GaN作为空穴注入层。
搜索关键词: ingan led 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
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