[发明专利]激光离子加速装置及应用其的医用激光离子治疗装置在审
| 申请号： | 201910174929.9 | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN109819573A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 钱铁威 | 申请（专利权）人： | 北京中百源国际科技创新研究有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人： | 李宏伟 |
| 地址： | 101149 北京市通州区运河核心*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种激光离子加速装置，包括靶室，所述的靶室内固定设有绝缘支架，绝缘支架上设有贯通靶室两侧的激光通道，激光通道的一端设有固体靶，还包括激光器，激光器的激光从激光通道的另一端射入，激光通道的一端连接有离子引出管，离子引出管延伸至靶室的外侧，离子引出管的端部连接有激光离子束优化组件。本发明提出一种激光离子加速装置及应用其的医用激光离子治疗装置，其激光离子加速装置能对激光束进行整形优化，以得到更好品质的激光束流，同时也可提高激光离子治疗装置的治疗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 激光离子 激光通道 加速装置 离子 治疗装置 引出管 靶室 绝缘支架 医用激光 激光器 端部连接 激光束流 一端连接 优化组件 治疗效果 固体靶 激光束 整形 射入 应用 激光 贯通 室内 延伸 优化 | ||
【主权项】：
1.一种激光离子加速装置，其特征在于：包括靶室(10)，所述的靶室(10)内固定设有绝缘支架(20)，绝缘支架(20)上设有贯通靶室(10)两侧的激光通道(30)，激光通道(30)的一端设有固体靶(40)，还包括激光器(50)，激光器(50)的激光从激光通道(30)的另一端射入，激光通道(30)的一端连接有离子引出管(60)，离子引出管(60)延伸至靶室(10)的外侧，离子引出管(60)的端部连接有激光离子束优化组件(70)。
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- 王骐;徐强;赵永蓬 - 哈尔滨工业大学
- 2015-02-16 - 2017-03-01 - H05G2/00
- Xe介质毛细管放电检测用极紫外光源系统，涉及一种13.5nm的极紫外光源。它为了解决常规的高功率EUV光源体积庞大、价格昂贵，不适合用作EUV光刻机各种部件的检测光源的问题。本发明中，主脉冲电源采用磁脉冲压缩网络对脉冲进行压缩陡化，主脉冲电源的高压电极和预脉冲电源的地电极共用一个电极，利用水冷系统对预脉冲高压电极和共用电极进行制冷，光学收集系统采用内嵌式Wolter I型收集系统，该系统包括10层收集镜，每层收集镜包括一个回转椭球面和一个回转双曲面，回转椭球面和回转双曲面具有一个公共几何焦点。本发明体积小，真空度高，且价格低，适合用作EUV光刻机各种部件的检测光源。
- 具有激光射束源和用于操纵激光射束的射束导引设备的极紫外激励光源-201380030885.3
- M·兰贝特;J·舒尔茨 - 通快激光系统半导体制造有限公司
- 2013-05-29 - 2017-02-22 - H05G2/00
- 本发明涉及一种极紫外激励光源(1)，其具有至少一个用于发射至少一个激光射束(10，12)的激光射束源(9，9')和一个用于操纵所述至少一个激光射束(10，12)的射束导引设备(22)，所述射束导引设备具有用于由所述至少一个激光射束(10，12)产生至少两个分离射束(10'，11，12'，13)的至少一个分束器(2)、用于操纵所述分离射束(10'，11，12'，13)中的至少一个分离射束的至少一个镜(4，5，15，16，17，18)或至少一个透镜、用于叠加所述至少两个分离射束(10″，11″'，12″，13″')的叠加镜(3)，和用于产生所述两个分离射束(10″，11″'，12″，13″')的相应焦点(7，8)的聚焦装置(6)。
- EUV辐射产生设备及其运行方法-201380055789.4
- M·兰贝特;A·恩茨曼 - 通快激光系统半导体制造有限公司
- 2013-09-19 - 2017-02-22 - H05G2/00
- 本发明涉及一种EUV辐射产生设备(1)，其包括真空室(4)以及用于将来自驱动激光装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)处。EUV辐射产生设备(1)包括安置在所述真空室(4)和所述射束引导室(3)之间的中间室(18)、气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使来自所述射束引导室(3)的激光射束(5)进入的第一窗(19)，以及气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使所述激光射束(5)输出到所述真空室(4)中的第二窗(20)。本发明也涉及一种用于运行所述EUV辐射产生设备(1)的方法。
- 专利分类
