[发明专利]在任意基底上制备光电器件的方法及光电器件在审

专利信息
申请号: 201910153809.0 申请日: 2019-03-01
公开(公告)号: CN109742247A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 葛文奇;田清勇;蔡龙华;范斌;刘秋菊;陈伟中 申请(专利权)人: 苏州协鑫纳米科技有限公司
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/42
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 赵世发;王锋
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种在任意基底上制备光电器件的方法及光电器件。所述在任意基底上制备光电器件的方法利用喷涂法不受基底的大小、形状限制,能大规模的制备钙钛矿组件,利用不同大小、不同形状的掩膜板,在不同地方,如建筑物、车辆等地方制备钙钛矿电池组件。根据基底的形状,如平面、波浪、不规则、弯折等,电池组件可以采用串联、并联和串并联结合方式制备。充分利用有限空间最大力度的使用清洁能源。本发明提供的在任意基底上制备光电器件的方法,采用喷涂法制作形成钙钛矿电池组件,喷涂法不受基底的大小、形状限制,能大规模的制备钙钛矿组件,扩大应用范围,促进系统集成。
搜索关键词: 基底 光电器件 制备 制备钙钛矿 电池组件 形状限制 喷涂法 串并联结合 促进系统 喷涂法制 清洁能源 不规则 钙钛矿 掩膜板 并联 弯折 波浪 串联 建筑物 应用
【主权项】:
1.一种在任意基底上制备光电器件的方法,其特征在于包括:利用第一掩膜板,并至少采用溶液法在任意基底上形成透明导电层;利用第一掩膜板,并至少采用喷涂方式在透明导电层上喷涂形成第一传输层;利用第二掩膜板,并至少采用喷涂方式在第一传输层上形成光电转换层;利用第三掩膜板,并至少采用喷涂方式在光电转换层上形成第二传输层;利用第四掩膜板,并至少采用溶液法在第二传输层上形成电极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州协鑫纳米科技有限公司,未经苏州协鑫纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910153809.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top