[发明专利]半导体器件在审
申请号: | 201910135780.3 | 申请日: | 2019-02-21 |
公开(公告)号: | CN110211955A | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 宋泰中;都桢湖;李昇映;郑钟勋 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 杨姗 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种半导体器件。半导体器件包括在衬底上彼此相邻的第一逻辑单元和第二逻辑单元、以及在第一逻辑单元与第二逻辑单元之间在第一方向上延伸的混合分离结构。每个逻辑单元包括:第一有源图案和第二有源图案,第一有源图案和第二有源图案在与第一方向相交的第二方向上延伸,并且在第一方向上彼此间隔开;以及栅电极,在第一方向上延伸并跨越第一有源图案和第二有源图案,并且所述多个栅电极以栅极间距间隔开。混合分离结构包括将第一逻辑单元的第一有源图案与第二逻辑单元的第一有源图案分离的第一分离结构;以及第一分离结构上的第二分离结构。第一分离结构的宽度大于栅极间距。 | ||
搜索关键词: | 源图案 逻辑单元 分离结构 半导体器件 栅电极 延伸 间距间隔 衬底 相交 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:第一逻辑单元和第二逻辑单元,所述第一逻辑单元和所述第二逻辑单元在衬底上彼此相邻;以及混合分离结构,所述混合分离结构在所述第一逻辑单元与所述第二逻辑单元之间在第一方向上延伸,其中,所述第一逻辑单元和所述第二逻辑单元中的每一个包括:第一有源图案和第二有源图案,所述第一有源图案和所述第二有源图案在与所述第一方向相交的第二方向上延伸并且在所述第一方向上彼此间隔开;以及多个栅电极,在所述第一方向上延伸并跨越所述第一有源图案和所述第二有源图案,所述多个栅电极以栅极间距间隔开,并且其中,所述混合分离结构包括:第一分离结构,所述第一分离结构将所述第一逻辑单元的第一有源图案与所述第二逻辑单元的第一有源图案分离;以及第二分离结构,所述第二分离结构在所述第一分离结构上,其中,所述第一分离结构的宽度大于所述栅极间距。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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