[发明专利]一种集成LED光源的表面量子点湿度传感器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910135771.4 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN109916865A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 王国东;谢东垒;杨莹丽;刘小莲;朱红伟;王家森 申请(专利权)人: 河南理工大学;王家森
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N27/12;B82Y40/00
代理公司: 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 代理人: 苏雪雪
地址: 454000 河南省焦作*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种集成LED光源的表面量子点湿度传感器及制作方法,方法包括:制备LED光源层,在LED光源层上沉积一GaAs层;在GaAs层上依次沉积n型GaAs缓冲层、N层InGaAs掩埋量子点层和InGaAs表面量子点层,形成表面量子点湿度传感层;在n型GaAs缓冲层上形成第一台阶;在p型GaP电流扩展层上形成第二台阶;在n型AlGaInP下限制层上形成第三台阶;在InGaAs表面量子点层的上表面一端、第一台阶、第二台阶、第三台阶的上表面及两侧,沉积形成钝化层;在钝化层上腐蚀出四个引线孔,并在四个引线孔中分别蒸度Au/Ge/Ni,形成传感上电极、传感下电极、LED上电极和LED下电极。
搜索关键词: 量子点层 量子点 沉积 集成LED光源 湿度传感器 钝化层 上表面 下电极 引线孔 电极 传感 电流扩展层 下限制层 传感层 制备 制作 掩埋 腐蚀
【主权项】:
1.一种集成LED光源的表面量子点湿度传感器的制作方法,其特征在于,包括:S1:制备LED光源层,所述LED光源层包括:在GaAs衬底(01)上从下到上依次沉积的n型AlGaInP下限制层(02)、AlGaInP多量子阱层(03)、p型AlGaInP上限制层(04)和p型GaP电流扩展层(05);S2:使用分子束外延技术,在所述LED光源层上沉积一GaAs层(06);S3:使用分子束外延技术,在所述GaAs层(06)上依次沉积n型GaAs缓冲层(07)、N层InGaAs掩埋量子点层(08)和InGaAs表面量子点层(14),形成表面量子点湿度传感层;其中,N为大于或者等于1的正整数:S4:采用干法刻蚀技术进行第一次刻蚀,刻蚀深度达到所述n型GaAs缓冲层(07),在所述n型GaAs缓冲层(07)上形成第一台阶;S5:采用干法刻蚀技术,在所述第一台阶表面继续刻蚀,刻蚀深度达到p型GaP电流扩展层(05),在所述p型GaP电流扩展层(05)上形成第二台阶;S6:采用干法刻蚀技术,在所述第二台阶表面继续刻蚀,刻蚀深度达到n型A1GaInP下限制层(02),在所述n型AlGaInP下限制层(02)上形成第三台阶;S7:在所述InGaAs表面量子点层(14)的上表面一端、所述第一台阶的上表面及两侧、所述第二台阶的上表面及两侧、所述第三台阶的上表面及两侧,沉积SiO2形成钝化层(13);S8:在所述钝化层(13)上进行光刻,腐蚀出四个引线孔,并在四个所述引线孔中分别蒸度Au/Ge/Ni,形成传感上电极(11)、传感下电极(12)、LED上电极(10)和LED下电极(9);S9:进行管芯分割,完成集成LED光源的表面量子点湿度传感器的制作。
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