[发明专利]一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺

摘要

本发明涉及一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺，所述工艺为：对光亮的铜膜或铜合金膜进行黑氧化处理，黑氧化处理的温度为40‑60℃，时间为0.5‑5min，处理结束后烘干，降低了铜膜或铜合金膜的反射率；所述光亮的铜膜或铜合金膜的厚度为0.1‑1μm，在380‑780nm波长内的反射率＞30％。本发明通过对试剂的调配以及工艺条件的优化，实现了对氧化铜层厚度的精确控制。在保证铜膜或铜合金膜导电性满足要求的前提下，大幅降低其反射率，铜膜或铜合金膜在380‑780nm波长范围内的平均反射率降低至15％以下，具有良好的应用前景。

主权项

1.一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺，其特征在于，所述工艺为：对光亮的铜膜或铜合金膜进行黑氧化处理，黑氧化处理的温度为40‑60℃，时间为0.5‑5min，处理结束后烘干，降低了铜膜或铜合金膜的反射率；所述光亮的铜膜或铜合金膜的厚度为0.1‑1μm，在380‑780nm波长内的反射率＞30％。