[发明专利]一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺有效

专利信息
申请号: 201910098104.3 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN109554700B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 李晓红;明东远;章晓冬;黄叔房;刘江波 申请(专利权)人: 广东天承科技股份有限公司
主分类号: C23C22/73 分类号: C23C22/73;C23C22/78
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 510990 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光亮 铜合金 反射 工艺
【权利要求书】:

1.一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺,其特征在于,所述工艺为:对光亮的铜膜或铜合金膜进行黑氧化处理,黑氧化处理的温度为40-60℃,时间为0.5-5min,处理结束后烘干,降低了铜膜或铜合金膜的反射率;所述光亮的铜膜或铜合金膜的厚度为0.1-1μm,在380-780nm波长内的反射率>30%;

所述光亮的铜膜或铜合金膜通过喷镀、蒸镀或者真空溅射方式形成;

所述黑氧化处理后对铜膜或铜合金膜进行缓蚀处理,所述缓蚀处理的操作为:在20-50℃下,利用缓蚀药水对铜膜或铜合金膜进行缓蚀处理0.1-5min,然后水洗;

所述减反射工艺用于铜膜或铜合金膜制成的线路;

所述黑氧化处理后的铜膜或铜合金膜在380-780nm波长范围内的平均反射率降低至15%以下。

2.如权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述黑氧化处理使用的药水中含有亚氯酸盐、氯酸盐、亚溴酸盐或溴酸盐中的至少一种。

3.如权利要求1或2所述的工艺,其特征在于,所述黑氧化处理的方式为浸泡或喷淋。

4.如权利要求1或2所述的工艺,其特征在于,所述黑氧化处理前对铜膜或铜合金膜进行前处理,所述前处理的操作为:在20-80℃下,利用碱性或酸性溶液对铜膜或铜合金膜处理0.1-5min,然后水洗。

5.如权利要求1或2所述的工艺,其特征在于,所述烘干的温度为80-200℃。

6.如权利要求1或2所述的工艺,其特征在于,所述烘干的时间为2s-30min。

7.如权利要求1所述的工艺,其特征在于,所述工艺包括以下步骤:

(1)前处理:在20-80℃下,利用碱性或酸性溶液对铜膜或铜合金膜处理0.1-5min,然后水洗,所述铜膜或铜合金膜的厚度为0.1-1μm,在380-780nm波长内的反射率>30%;

(2)黑氧化处理:在40-60℃下,采用浸泡或喷淋的方式将步骤(1)前处理后的铜膜或铜合金膜在药水中黑氧化处理0.5-5min,然后水洗;

(3)缓蚀处理:在20-50℃下,利用缓蚀药水对步骤(2)黑氧化处理后的铜膜或铜合金膜进行缓蚀处理0.1-5min,然后水洗;

(4)烘干处理:在80-200℃下对步骤(3)缓蚀处理后的铜膜或铜合金膜烘干2s-30min。

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